Продукты

Рекомендуемые продукты

связаться с нами

  • Оборудование для сверления микросфер ИРЧП
  • Оборудование для сверления микросфер ИРЧП
  • Оборудование для сверления микросфер ИРЧП
  • Оборудование для сверления микросфер ИРЧП
  • video

Оборудование для сверления микросфер ИРЧП

Лазерное сверление отверстий размером менее 50 мкм для современных плат ИРЧП. Сверхбыстрое позиционирование обеспечивает высокую производительность производства. Автоматический контроль фокусировки обеспечивает стабильное качество отверстий. Компактные размеры подходят для существующих линий по производству печатных плат.
  • Le Cheng
  • Шанхай
  • Три месяца
  • Пятьдесят комплектов в течение года

Описание оборудования для сверления ИРЧП Микровия

Оборудование для сверления микроотверстий ИРЧП — это высокоточная лазерная система, специально разработанная для плат с высокой плотностью межсоединений (ИРЧП). Благодаря передовой технологии ультрафиолетового лазера в сочетании с прецизионными координатными столами и интеллектуальными системами управления, оно позволяет сверлить микроотверстия размером до 25 мкм, что делает его идеальным решением для устройств связи 5G и материнских плат смартфонов премиум-класса.

HDI Microvia Drilling Equipment

​​Laser PCB Drilling System​

​​High-Density Interconnect Driller​

Особенности системы

  1. Лазерная система:

    • 355 нм УФ-наносекундный/пикосекундный лазер

    • Качество луча M²<1,3, регулируемый размер пятна (10–50 мкм)

    • Стабильность энергии импульса ±2%

  2. Система движения:

    • Высокоточные линейные двигатели

    • Точность позиционирования ±5 мкм, повторяемость ±2 мкм

    • Максимальное ускорение 2 м/с²

  3. Система зрения:

    • 10-мегапиксельная ПЗС-камера высокого разрешения

    • Точность автофокусировки ±2 мкм

    • Компенсация расширения печатной платы

  4. Система управления:

    • Контроллер движения промышленного класса

    • Прямой импорт файлов Гербер

    • Автоматическая оптимизация пути

Технические преимущества

Спецификация

Параметр

Выгода

Минимальный размер переходного отверстия

25 мкм

Соответствует требованиям ультра-ИРЧП

Точность определения местоположения

±5 мкм

Обеспечивает выравнивание слоев

Скорость обработки

500 отверстий/сек

Высокая производительность

Качество через стену

Ра<1мкм

Уменьшает сложность нанесения покрытия

Время безотказной работы оборудования

ссшшш95%

Гарантирует стабильность производства

HDI Microvia Drilling Equipment



Основные преимущества:

  • Бесконтактная обработка исключает механическое воздействие

  • Автоматическая компенсация расширения материала

  • Интеллектуальное управление энергией для обеспечения постоянной формы отверстия

  • Модульная конструкция для простоты обслуживания

Типичные применения

  1. Коммуникационное оборудование:

    • Печатные платы базовых станций 5G

    • Платы антенн миллиметрового диапазона

  2. Бытовая электроника:

    • Материнские платы для смартфонов

    • Гибкие платы для носимых устройств

  3. Автомобильная электроника:

    • Печатные платы автомобильных радаров

    • Модули управления транспортными средствами на новых источниках энергии

  4. Аэрокосмическая/военная промышленность:

    • Высоконадежные военные печатные платы

    • Платы спутниковой связи

Характеристики приведены только в качестве ориентировочных. Все оборудование полностью настраивается в соответствии с вашими потребностями!

  • Сколько времени проходит от заказа оборудования до официального производства при сотрудничестве с Локсен?

    Общие сроки варьируются в зависимости от характеристик оборудования и масштаба производственной линии. Для стандартных моделей, предназначенных для отдельного оборудования, требуется 45-дневный цикл производства, а общая продолжительность (включая доставку и установку) составляет около 60 дней. Для оборудования, изготовленного по индивидуальному заказу, требуется дополнительно 30 дней в зависимости от технических требований. Для комплексных линейных решений: • Для производственных линий мощностью 100 МВт требуется около 4 месяцев на планирование, изготовление оборудования, монтаж и ввод в эксплуатацию. • Производственные линии уровня ГВ требуют около 8 месяцев Мы предоставляем подробные графики проектов с выделенными менеджерами, обеспечивающими бесперебойную координацию. Пример: линия по производству перовскита мощностью 1 ГВт для клиента была завершена на 15 дней раньше срока благодаря параллельному производству оборудования и строительству объекта.
  • Предлагает ли Локсен подходящее оборудование и партнерские решения для стартапов в сфере перовскита?

    Локсен предлагает «Программу поэтапного партнерства», специально разработанную для стартапов в области перовскита. На начальном этапе НИОКР мы поставляем компактное опытно-промышленное оборудование (например, системы лазерной разметки мощностью 10 МВт) в комплекте с необходимыми технологическими пакетами для упрощения проверки технологии и итерации продукта. На этапах масштабирования стартапы имеют право на получение преимуществ при модернизации: • Основные модули пилотного оборудования можно обменять на оборудование производственной линии с вычетом стоимости • Дополнительное техническое сотрудничество, включая поддержку разработки процесса и обмен экспериментальными данными Эта программа успешно позволила нескольким стартапам плавно перейти от лабораторного этапа к опытному производству, одновременно снизив инвестиционные риски на раннем этапе.
  • Может ли оборудование Локсен работать с перовскитными солнечными элементами разных размеров? Какой максимальный поддерживаемый размер?

    Лазерное оборудование Локсен отличается исключительной совместимостью размеров и способно обрабатывать перовскитные солнечные элементы размером от 10 см × 10 см до 2,4 м × 1,2 м. Для обработки ячеек большого размера (например, жестких подложек размером 12 м × 2,4 м) мы предлагаем индивидуальные лазерные системы портального типа с синхронизацией нескольких лазерных головок, что обеспечивает как точность, так и производительность. • Доказанная производительность: успешно обработаны ячейки размером 1,2 м × 0,6 м с лучшей в отрасли точностью скрайбирования (±15 мкм) и однородностью (>98%) • Модульная конструкция: сменные оптические модули адаптируются к различной толщине (0,1–6 мм) • Интеллектуальная калибровка: выравнивание луча в реальном времени с помощью ИИ компенсирует деформацию подложки
  • Предлагает ли Локсен индивидуальные лазерные решения для всех ключевых этапов производства перовскитных солнечных элементов?

    Да, компания Локсен предлагает комплексные решения по лазерной обработке, охватывающие всю цепочку производства перовскитных солнечных элементов: Лазерная маркировка P0: для идентификации ячеек после нанесения пленки Лазерная гравировка P1/P2/P3: точное нанесение рисунка • Прозрачные проводящие слои (P1) • Активные слои перовскита (P2) • Задние электроды (P3) Изоляция кромок P4: микронная обрезка кромок для предотвращения короткого замыкания Модули тандемных ячеек: специализированные системы лазерного травления для обработки слоев нескольких материалов Наша интегрированная экосистема оборудования обеспечивает выполнение всех требований к лазерной обработке с помощью: • Точность совмещения слоев ≤20 мкм • Зона термического воздействия контролируется менее чем 5 мкм • Модульные платформы, поддерживающие НИОКР для производства в масштабах ГВт
  • Какие диапазоны допуска состава поддерживают инструменты Локсен для различных формул перовскита?

    Лазерные системы Локсен демонстрируют исключительную адаптируемость к различным составам перовскита. • Предварительно загруженные параметры: оптимизированные настройки для основных составов (например, ФАПби₃, CsPbI₃) в библиотеке рецептов лазера обеспечивают мгновенный доступ оператора. • Поддержка НИОКР: для новых составов (например, перовскитов на основе Сн) наша команда обеспечивает: индивидуальную калибровку длины волны/плотности потока в течение 72 часов. Проверка производительности, гарантирующая<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

сопутствующие товары

40px

80px

80px

80px

Получить цену