Продукты

Рекомендуемые продукты

связаться с нами

  • Система лазерного отжига пластин
  • Система лазерного отжига пластин
  • Система лазерного отжига пластин
  • video

Система лазерного отжига пластин

Сверхточный лазерный отжиг для современного производства микросхем. Равномерное распределение энергии обеспечивает равномерную обработку пластин. Бесконтактный процесс предотвращает повреждение поверхности полупроводника. Автоматическая калибровка адаптируется к различным спецификациям пластин.
  • Le Cheng
  • Шанхай
  • Три месяца
  • Пятьдесят комплектов в течение года

Конструктивные особенности

Система лазерного отжига пластин имеет модульную конструкцию с настраиваемыми лазерными источниками (308 нм/532 нм/1064 нм) и высокоточным подвижным столиком на воздушных подшипниках (точность позиционирования ±1 мкм). Компактная система размером 2 × 2 м, подходящая для чистых помещений, включает в себя мониторинг температуры в режиме реального времени и автоматическую регулировку фокуса для обеспечения постоянного контроля процесса.

Wafer Laser Annealing System

Технические преимущества

  • Прецизионный отжиг: регулируемая плотность энергии 0,1–5 Дж/см² с регулировкой температуры ±1 °C

  • Высокая пропускная способность: обрабатывает 100–500 сайтов в секунду (в 100 раз быстрее, чем РТП)

  • Избирательная обработка: обеспечивает отжиг на уровне одного транзистора

  • Нетермическое повреждение: сверхкороткий импульс предотвращает нагрев подложки

  • Умный Контроль: оптимизация параметров и обнаружение дефектов на основе ИИ

Типичные применения

  • Передовой Логика Устройства: отжиг истока/стока для узлов 7 нм/5 нм

  • 3D NAND Вспышка: отжиг контактов для вертикальных структур памяти

  • Силовые приборы: отжиг SiC/GaN для повышения мобильности

  • Производство СНГ: повышение производительности на уровне пикселей

  • Усовершенствованная упаковка: отжиг межсоединений для 2,5D/3D ИС

Ключевые данные о производительности:

Параметр

Спецификация

Размер пластины

4-12 дюймов

Длина волны

308/532/1064 нм на выбор

Плотность энергии

0,1-5 Дж/см²

Точность позиционирования

±1 мкм

Пропускная способность

100-500 сайтов/сек

Контроль температуры

±1℃

Расширенные возможности управления технологическим процессом системы делают ее идеальным решением для производства полупроводников следующего поколения, обеспечивая превосходную производительность устройств при сохранении высокой производительности и выхода годных изделий.

Характеристики приведены только в качестве ориентировочных. Все оборудование полностью настраивается в соответствии с вашими потребностями!

  • Сколько времени проходит от заказа оборудования до официального производства при сотрудничестве с Локсен?

    Общие сроки варьируются в зависимости от характеристик оборудования и масштаба производственной линии. Для стандартных моделей, предназначенных для отдельного оборудования, требуется 45-дневный цикл производства, а общая продолжительность (включая доставку и установку) составляет около 60 дней. Для оборудования, изготовленного по индивидуальному заказу, требуется дополнительно 30 дней в зависимости от технических требований. Для комплексных линейных решений: • Для производственных линий мощностью 100 МВт требуется около 4 месяцев на планирование, изготовление оборудования, монтаж и ввод в эксплуатацию. • Производственные линии уровня ГВ требуют около 8 месяцев Мы предоставляем подробные графики проектов с выделенными менеджерами, обеспечивающими бесперебойную координацию. Пример: линия по производству перовскита мощностью 1 ГВт для клиента была завершена на 15 дней раньше срока благодаря параллельному производству оборудования и строительству объекта.
  • Предлагает ли Локсен подходящее оборудование и партнерские решения для стартапов в сфере перовскита?

    Локсен предлагает «Программу поэтапного партнерства», специально разработанную для стартапов в области перовскита. На начальном этапе НИОКР мы поставляем компактное опытно-промышленное оборудование (например, системы лазерной разметки мощностью 10 МВт) в комплекте с необходимыми технологическими пакетами для упрощения проверки технологии и итерации продукта. На этапах масштабирования стартапы имеют право на получение преимуществ при модернизации: • Основные модули пилотного оборудования можно обменять на оборудование производственной линии с вычетом стоимости • Дополнительное техническое сотрудничество, включая поддержку разработки процесса и обмен экспериментальными данными Эта программа успешно позволила нескольким стартапам плавно перейти от лабораторного этапа к опытному производству, одновременно снизив инвестиционные риски на раннем этапе.
  • Может ли оборудование Локсен работать с перовскитными солнечными элементами разных размеров? Какой максимальный поддерживаемый размер?

    Лазерное оборудование Локсен отличается исключительной совместимостью размеров и способно обрабатывать перовскитные солнечные элементы размером от 10 см × 10 см до 2,4 м × 1,2 м. Для обработки ячеек большого размера (например, жестких подложек размером 12 м × 2,4 м) мы предлагаем индивидуальные лазерные системы портального типа с синхронизацией нескольких лазерных головок, что обеспечивает как точность, так и производительность. • Доказанная производительность: успешно обработаны ячейки размером 1,2 м × 0,6 м с лучшей в отрасли точностью скрайбирования (±15 мкм) и однородностью (>98%) • Модульная конструкция: сменные оптические модули адаптируются к различной толщине (0,1–6 мм) • Интеллектуальная калибровка: выравнивание луча в реальном времени с помощью ИИ компенсирует деформацию подложки
  • Предлагает ли Локсен индивидуальные лазерные решения для всех ключевых этапов производства перовскитных солнечных элементов?

    Да, компания Локсен предлагает комплексные решения по лазерной обработке, охватывающие всю цепочку производства перовскитных солнечных элементов: Лазерная маркировка P0: для идентификации ячеек после нанесения пленки Лазерная гравировка P1/P2/P3: точное нанесение рисунка • Прозрачные проводящие слои (P1) • Активные слои перовскита (P2) • Задние электроды (P3) Изоляция кромок P4: микронная обрезка кромок для предотвращения короткого замыкания Модули тандемных ячеек: специализированные системы лазерного травления для обработки слоев нескольких материалов Наша интегрированная экосистема оборудования обеспечивает выполнение всех требований к лазерной обработке с помощью: • Точность совмещения слоев ≤20 мкм • Зона термического воздействия контролируется менее чем 5 мкм • Модульные платформы, поддерживающие НИОКР для производства в масштабах ГВт
  • Какие диапазоны допуска состава поддерживают инструменты Локсен для различных формул перовскита?

    Лазерные системы Локсен демонстрируют исключительную адаптируемость к различным составам перовскита. • Предварительно загруженные параметры: оптимизированные настройки для основных составов (например, ФАПби₃, CsPbI₃) в библиотеке рецептов лазера обеспечивают мгновенный доступ оператора. • Поддержка НИОКР: для новых составов (например, перовскитов на основе Сн) наша команда обеспечивает: индивидуальную калибровку длины волны/плотности потока в течение 72 часов. Проверка производительности, гарантирующая<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

сопутствующие товары

40px

80px

80px

80px

Получить цену