Продукты

Рекомендуемые продукты

связаться с нами

  • Оборудование для лазерной гравировки
  • Оборудование для лазерной гравировки
  • Оборудование для лазерной гравировки
  • video

Оборудование для лазерной гравировки

Сверхтонкое лазерное травление с длиной волны 5 мкм — субмикронная точность для полупроводников и гибких печатных плат. Высокоскоростная обработка со скоростью 2000 мм/с — в 4 раза быстрее, чем химическое травление, без отходов. Совместимость с более чем 200 материалами — от стекла до титановых сплавов, бесконтактное соединение. Интеллектуальное управление ЧМИ — автофокусировка и интеграция с САПР, сертифицировано по стандарту ISO.
  • Le Cheng
  • Шанхай
  • Три месяца
  • Пятьдесят комплектов в течение года

Структурные особенности

Наша система лазерной гравировки сочетает в себе передовые инженерные решения для обеспечения непревзойденной производительности:

  1. Сверхстабильный лазерный источник: волоконные/УФ/пикосекундные лазеры с регулируемой длительностью импульса (нс/пс/фс), возможностью выбора длины волны (355 нм, 532 нм, 1064 нм) и пиковой мощностью до 50 Вт.

  2. Высокоточная система перемещения: гранитный столик на воздушных подшипниках с точностью позиционирования ±1 мкм, соединенный с гальванометрическим сканированием (поле зрения 7 мм²–300 мм²) для динамического формирования рисунка.

  3. Комплекс интеллектуального управления:

    • Автофокусировка по оси Z в реальном времени (разрешение: 0,1 мкм)

    • Визуальная юстировка ПЗС-матрицы для обеспечения точности наложения ±5 мкм

    • Человеко-машинный интерфейс (ЧМИ) с фирменным программным обеспечением, поддерживающим форматы DXF, Гербер и БМП.

  4. Многоуровневый контроль окружающей среды:

    • Корпус, совместимый с чистыми помещениями класса 1000.

    • Активная регулировка температуры и влажности (±0,5°C)

    • Встроенная система вытяжки дымовых газов с HEPA-фильтрацией.

  5. Модульная система модернизации: опционально 3-осевой поворотный столик, профилометрия в ситу или гибридная конфигурация с несколькими лазерами.

  6. Laser Etching Equipment​


Технические преимущества

Совершите революцию в своем производстве, используя передовые технологические решения:

  • Субмикронная точность: достижение размеров элементов 5–20 мкм (Ра < 0,2 мкм) за счет формирования пучка, ограниченного дифракцией.

  • Бесконтактная обработка: исключает износ инструмента и механическое напряжение при работе с хрупкими материалами (например, карбид кремния, стекло).

  • Адаптивное управление энергией: импульсная модуляция мощности (1–100% с шагом 0,1%) позволяет избирательно абляцию многослойных структур (например, ИТО/Аг/ДОМАШНИЙ ПИТОМЕЦ).

  • Скорость и эффективность: скорость сканирования 2000 мм/с с ускорением 50g; в 4 раза быстрее, чем химическое травление.

  • Экологически чистая работа: на 30% меньшее энергопотребление по сравнению с конкурентами; отсутствие токсичных травильных растворов и сточных вод.

precision laser etching

Типичные области применения

Содействие инновациям в различных отраслях:


СекторВарианты использованияОсновные преимущества
ПолупроводникиНарезка кремниевых пластин, обрезка микросхем, маркировка корпусов.Ширина пропила <10 мкм, отсутствие микротрещин.
ФПД/ВЕЛФормирование рисунка на гибкой печатной плате, удаление инкапсуляции OLED-дисплея, травление сенсорного экрана.Селективная абляция, выход 99,9%.
СолнечнаяСверление отверстий в ПЕРК-клетках (10–20 мкм), нанесение надрезов на тонкие пленки.500 отверстий/сек, точность позиционирования ±2 мкм
Медицинские изделияТекстурирование стентов, микронарезка имплантатов, изготовление каналов в лабораторных чипах.Биосовместимая модификация поверхности
Передовые исследования и разработкиОбработка 2D-материалов, создание метаповерхностей, прототипирование квантовых устройств.Наносекундное тепловое воздействие


Технические характеристики являются ориентировочными — всё оборудование полностью настраивается под ваши потребности!



  • Сколько времени проходит от заказа оборудования до официального производства при сотрудничестве с Локсен?

    Общие сроки варьируются в зависимости от характеристик оборудования и масштаба производственной линии. Для стандартных моделей, предназначенных для отдельного оборудования, требуется 45-дневный цикл производства, а общая продолжительность (включая доставку и установку) составляет около 60 дней. Для оборудования, изготовленного по индивидуальному заказу, требуется дополнительно 30 дней в зависимости от технических требований. Для комплексных линейных решений: • Для производственных линий мощностью 100 МВт требуется около 4 месяцев на планирование, изготовление оборудования, монтаж и ввод в эксплуатацию. • Производственные линии уровня ГВ требуют около 8 месяцев Мы предоставляем подробные графики проектов с выделенными менеджерами, обеспечивающими бесперебойную координацию. Пример: линия по производству перовскита мощностью 1 ГВт для клиента была завершена на 15 дней раньше срока благодаря параллельному производству оборудования и строительству объекта.
  • Предлагает ли Локсен подходящее оборудование и партнерские решения для стартапов в сфере перовскита?

    Локсен предлагает «Программу поэтапного партнерства», специально разработанную для стартапов в области перовскита. На начальном этапе НИОКР мы поставляем компактное опытно-промышленное оборудование (например, системы лазерной разметки мощностью 10 МВт) в комплекте с необходимыми технологическими пакетами для упрощения проверки технологии и итерации продукта. На этапах масштабирования стартапы имеют право на получение преимуществ при модернизации: • Основные модули пилотного оборудования можно обменять на оборудование производственной линии с вычетом стоимости • Дополнительное техническое сотрудничество, включая поддержку разработки процесса и обмен экспериментальными данными Эта программа успешно позволила нескольким стартапам плавно перейти от лабораторного этапа к опытному производству, одновременно снизив инвестиционные риски на раннем этапе.
  • Может ли оборудование Локсен работать с перовскитными солнечными элементами разных размеров? Какой максимальный поддерживаемый размер?

    Лазерное оборудование Локсен отличается исключительной совместимостью размеров и способно обрабатывать перовскитные солнечные элементы размером от 10 см × 10 см до 2,4 м × 1,2 м. Для обработки ячеек большого размера (например, жестких подложек размером 12 м × 2,4 м) мы предлагаем индивидуальные лазерные системы портального типа с синхронизацией нескольких лазерных головок, что обеспечивает как точность, так и производительность. • Доказанная производительность: успешно обработаны ячейки размером 1,2 м × 0,6 м с лучшей в отрасли точностью скрайбирования (±15 мкм) и однородностью (>98%) • Модульная конструкция: сменные оптические модули адаптируются к различной толщине (0,1–6 мм) • Интеллектуальная калибровка: выравнивание луча в реальном времени с помощью ИИ компенсирует деформацию подложки
  • Предлагает ли Локсен индивидуальные лазерные решения для всех ключевых этапов производства перовскитных солнечных элементов?

    Да, компания Локсен предлагает комплексные решения по лазерной обработке, охватывающие всю цепочку производства перовскитных солнечных элементов: Лазерная маркировка P0: для идентификации ячеек после нанесения пленки Лазерная гравировка P1/P2/P3: точное нанесение рисунка • Прозрачные проводящие слои (P1) • Активные слои перовскита (P2) • Задние электроды (P3) Изоляция кромок P4: микронная обрезка кромок для предотвращения короткого замыкания Модули тандемных ячеек: специализированные системы лазерного травления для обработки слоев нескольких материалов Наша интегрированная экосистема оборудования обеспечивает выполнение всех требований к лазерной обработке с помощью: • Точность совмещения слоев ≤20 мкм • Зона термического воздействия контролируется менее чем 5 мкм • Модульные платформы, поддерживающие НИОКР для производства в масштабах ГВт
  • Какие диапазоны допуска состава поддерживают инструменты Локсен для различных формул перовскита?

    Лазерные системы Локсен демонстрируют исключительную адаптируемость к различным составам перовскита. • Предварительно загруженные параметры: оптимизированные настройки для основных составов (например, ФАПби₃, CsPbI₃) в библиотеке рецептов лазера обеспечивают мгновенный доступ оператора. • Поддержка НИОКР: для новых составов (например, перовскитов на основе Сн) наша команда обеспечивает: индивидуальную калибровку длины волны/плотности потока в течение 72 часов. Проверка производительности, гарантирующая<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

сопутствующие товары

  • Удаление края лазерного луча P4 для перовскитных солнечных элементов
    Удаление края лазерного луча P4 для перовскитных солнечных элементов
    Компания Леченг Разумный предлагает стабильное решение для удаления краев перовскитных солнечных элементов с помощью лазера P4, помогая клиентам добиться более чистой изоляции краев, лучшей совместимости с инкапсуляцией и повышенной надежности модулей. На этой странице представлен подход Леченг к обработке перовскитными фотоэлектрическими элементами с помощью лазера P4, с особым акцентом на качество краев, контроль мертвых зон и стабильность, ориентированную на производство.
    Более
  • Лазерная гравировка P3 для перовскитных солнечных элементов
    Лазерная гравировка P3 для перовскитных солнечных элементов
    Компания Леченг предлагает решения для лазерной гравировки P3 для перовскитных солнечных элементов, что помогает обеспечить чистую изоляцию элементов, стабильное качество линии и лучшую интеграцию модулей. Подходит для лабораторных исследований, пилотных линий и масштабируемого производства фотоэлектрических элементов.
    Более
  • Лазерная гравировка P2 для перовскитных солнечных элементов
    Лазерная гравировка P2 для перовскитных солнечных элементов
    Если вы хотите изучить более широкую инженерную логику интеграции P1, P2, P3 и P4, а также полную конфигурацию линии, посетите нашу соответствующую страницу, посвященную производственной линии перовскитных лазеров. Эта внутренняя статья помогает повысить актуальность темы, касающейся лазерной гравировки P2 для перовскитных солнечных элементов, обработки перовскитных лазеров и решений для пилотных линий по производству перовскитов.
    Более
  • Лазерная гравировка P1 для перовскитных солнечных элементов
    Лазерная гравировка P1 для перовскитных солнечных элементов
    Компания Леченг Разумный предлагает стабильное решение для лазерной гравировки P1 в перовскитных солнечных элементах, помогая клиентам добиться чистой изоляции проводящего слоя, лучшей стабильности линий и большей технологической совместимости для лабораторных исследований, пилотных линий и масштабируемого производства. На этой странице с описанием кейса показано, как Леченг подходит к лазерной гравировке на ранних стадиях производства перовскитных фотоэлектрических элементов, уделяя особое внимание точности, защите подложки и непрерывности процесса на последующих этапах.
    Более
  • Решения АМ0 для солнечного симулятора
    Решения АМ0 для солнечного симулятора
    Высокоточные решения для моделирования солнечной энергии АМ0, предназначенные для тестирования космических фотоэлектрических систем, исследований перовскитных солнечных элементов, спектральной оценки и проверки характеристик современных солнечных устройств. Компания Леченг Разумный предлагает ориентированные на технологические процессы решения для моделирования солнечного излучения АМ0, предназначенные для клиентов, которым требуется нечто большее, чем просто базовое осветительное оборудование. Наше решение разработано с учетом спектральной точности, равномерности облучения, временной стабильности, оптического формирования и гибких режимов тестирования, помогая исследовательским группам и производителям создавать более надежную платформу для тестирования солнечных элементов в космосе, тестирования перовскитных фотоэлектрических элементов и оценки передовых фотоэлектрических устройств.
    Более

40px

80px

80px

80px

Получить цену