Продукты

Рекомендуемые продукты

связаться с нами

  • Оборудование для лазерной гравировки
  • Оборудование для лазерной гравировки
  • Оборудование для лазерной гравировки
  • video

Оборудование для лазерной гравировки

Сверхтонкое лазерное травление с длиной волны 5 мкм — субмикронная точность для полупроводников и гибких печатных плат. Высокоскоростная обработка со скоростью 2000 мм/с — в 4 раза быстрее, чем химическое травление, без отходов. Совместимость с более чем 200 материалами — от стекла до титановых сплавов, бесконтактное соединение. Интеллектуальное управление ЧМИ — автофокусировка и интеграция с САПР, сертифицировано по стандарту ISO.
  • Le Cheng
  • Шанхай
  • Три месяца
  • Пятьдесят комплектов в течение года

Структурные особенности

Наша система лазерной гравировки сочетает в себе передовые инженерные решения для обеспечения непревзойденной производительности:

  1. Сверхстабильный лазерный источник: волоконные/УФ/пикосекундные лазеры с регулируемой длительностью импульса (нс/пс/фс), возможностью выбора длины волны (355 нм, 532 нм, 1064 нм) и пиковой мощностью до 50 Вт.

  2. Высокоточная система перемещения: гранитный столик на воздушных подшипниках с точностью позиционирования ±1 мкм, соединенный с гальванометрическим сканированием (поле зрения 7 мм²–300 мм²) для динамического формирования рисунка.

  3. Комплекс интеллектуального управления:

    • Автофокусировка по оси Z в реальном времени (разрешение: 0,1 мкм)

    • Визуальная юстировка ПЗС-матрицы для обеспечения точности наложения ±5 мкм

    • Человеко-машинный интерфейс (ЧМИ) с фирменным программным обеспечением, поддерживающим форматы DXF, Гербер и БМП.

  4. Многоуровневый контроль окружающей среды:

    • Корпус, совместимый с чистыми помещениями класса 1000.

    • Активная регулировка температуры и влажности (±0,5°C)

    • Встроенная система вытяжки дымовых газов с HEPA-фильтрацией.

  5. Модульная система модернизации: опционально 3-осевой поворотный столик, профилометрия в ситу или гибридная конфигурация с несколькими лазерами.

  6. Laser Etching Equipment​


Технические преимущества

Совершите революцию в своем производстве, используя передовые технологические решения:

  • Субмикронная точность: достижение размеров элементов 5–20 мкм (Ра < 0,2 мкм) за счет формирования пучка, ограниченного дифракцией.

  • Бесконтактная обработка: исключает износ инструмента и механическое напряжение при работе с хрупкими материалами (например, карбид кремния, стекло).

  • Адаптивное управление энергией: импульсная модуляция мощности (1–100% с шагом 0,1%) позволяет избирательно абляцию многослойных структур (например, ИТО/Аг/ДОМАШНИЙ ПИТОМЕЦ).

  • Скорость и эффективность: скорость сканирования 2000 мм/с с ускорением 50g; в 4 раза быстрее, чем химическое травление.

  • Экологически чистая работа: на 30% меньшее энергопотребление по сравнению с конкурентами; отсутствие токсичных травильных растворов и сточных вод.

precision laser etching

Типичные области применения

Содействие инновациям в различных отраслях:


СекторВарианты использованияОсновные преимущества
ПолупроводникиНарезка кремниевых пластин, обрезка микросхем, маркировка корпусов.Ширина пропила <10 мкм, отсутствие микротрещин.
ФПД/ВЕЛФормирование рисунка на гибкой печатной плате, удаление инкапсуляции OLED-дисплея, травление сенсорного экрана.Селективная абляция, выход 99,9%.
СолнечнаяСверление отверстий в ПЕРК-клетках (10–20 мкм), нанесение надрезов на тонкие пленки.500 отверстий/сек, точность позиционирования ±2 мкм
Медицинские изделияТекстурирование стентов, микронарезка имплантатов, изготовление каналов в лабораторных чипах.Биосовместимая модификация поверхности
Передовые исследования и разработкиОбработка 2D-материалов, создание метаповерхностей, прототипирование квантовых устройств.Наносекундное тепловое воздействие


Технические характеристики являются ориентировочными — всё оборудование полностью настраивается под ваши потребности!



  • Сколько времени проходит от заказа оборудования до официального производства при сотрудничестве с Локсен?

    Общие сроки варьируются в зависимости от характеристик оборудования и масштаба производственной линии. Для стандартных моделей, предназначенных для отдельного оборудования, требуется 45-дневный цикл производства, а общая продолжительность (включая доставку и установку) составляет около 60 дней. Для оборудования, изготовленного по индивидуальному заказу, требуется дополнительно 30 дней в зависимости от технических требований. Для комплексных линейных решений: • Для производственных линий мощностью 100 МВт требуется около 4 месяцев на планирование, изготовление оборудования, монтаж и ввод в эксплуатацию. • Производственные линии уровня ГВ требуют около 8 месяцев Мы предоставляем подробные графики проектов с выделенными менеджерами, обеспечивающими бесперебойную координацию. Пример: линия по производству перовскита мощностью 1 ГВт для клиента была завершена на 15 дней раньше срока благодаря параллельному производству оборудования и строительству объекта.
  • Предлагает ли Локсен подходящее оборудование и партнерские решения для стартапов в сфере перовскита?

    Локсен предлагает «Программу поэтапного партнерства», специально разработанную для стартапов в области перовскита. На начальном этапе НИОКР мы поставляем компактное опытно-промышленное оборудование (например, системы лазерной разметки мощностью 10 МВт) в комплекте с необходимыми технологическими пакетами для упрощения проверки технологии и итерации продукта. На этапах масштабирования стартапы имеют право на получение преимуществ при модернизации: • Основные модули пилотного оборудования можно обменять на оборудование производственной линии с вычетом стоимости • Дополнительное техническое сотрудничество, включая поддержку разработки процесса и обмен экспериментальными данными Эта программа успешно позволила нескольким стартапам плавно перейти от лабораторного этапа к опытному производству, одновременно снизив инвестиционные риски на раннем этапе.
  • Может ли оборудование Локсен работать с перовскитными солнечными элементами разных размеров? Какой максимальный поддерживаемый размер?

    Лазерное оборудование Локсен отличается исключительной совместимостью размеров и способно обрабатывать перовскитные солнечные элементы размером от 10 см × 10 см до 2,4 м × 1,2 м. Для обработки ячеек большого размера (например, жестких подложек размером 12 м × 2,4 м) мы предлагаем индивидуальные лазерные системы портального типа с синхронизацией нескольких лазерных головок, что обеспечивает как точность, так и производительность. • Доказанная производительность: успешно обработаны ячейки размером 1,2 м × 0,6 м с лучшей в отрасли точностью скрайбирования (±15 мкм) и однородностью (>98%) • Модульная конструкция: сменные оптические модули адаптируются к различной толщине (0,1–6 мм) • Интеллектуальная калибровка: выравнивание луча в реальном времени с помощью ИИ компенсирует деформацию подложки
  • Предлагает ли Локсен индивидуальные лазерные решения для всех ключевых этапов производства перовскитных солнечных элементов?

    Да, компания Локсен предлагает комплексные решения по лазерной обработке, охватывающие всю цепочку производства перовскитных солнечных элементов: Лазерная маркировка P0: для идентификации ячеек после нанесения пленки Лазерная гравировка P1/P2/P3: точное нанесение рисунка • Прозрачные проводящие слои (P1) • Активные слои перовскита (P2) • Задние электроды (P3) Изоляция кромок P4: микронная обрезка кромок для предотвращения короткого замыкания Модули тандемных ячеек: специализированные системы лазерного травления для обработки слоев нескольких материалов Наша интегрированная экосистема оборудования обеспечивает выполнение всех требований к лазерной обработке с помощью: • Точность совмещения слоев ≤20 мкм • Зона термического воздействия контролируется менее чем 5 мкм • Модульные платформы, поддерживающие НИОКР для производства в масштабах ГВт
  • Какие диапазоны допуска состава поддерживают инструменты Локсен для различных формул перовскита?

    Лазерные системы Локсен демонстрируют исключительную адаптируемость к различным составам перовскита. • Предварительно загруженные параметры: оптимизированные настройки для основных составов (например, ФАПби₃, CsPbI₃) в библиотеке рецептов лазера обеспечивают мгновенный доступ оператора. • Поддержка НИОКР: для новых составов (например, перовскитов на основе Сн) наша команда обеспечивает: индивидуальную калибровку длины волны/плотности потока в течение 72 часов. Проверка производительности, гарантирующая<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

сопутствующие товары

40px

80px

80px

80px

Получить цену